多弧离子镀膜（Arc Ion Plating, AIP）是利用高能电弧放电使金属靶材气化并电离，将高能金属离子沉积在基材表面形成涂层的物理气相沉积（PVD）技术之一。其镀层具有致密性高、耐磨、耐腐蚀等特点，广泛应用于工具、电子、光学及航空航天等领域。